新凯莱的“惊喜”，会是这些。光刻机综合研发形势一片大好，2028年量产28nm很有希望
新凯莱10月15日至17日举办的“湾芯展”上可能带来多项“惊喜”，主要是测试仪器、先进制程配套。
例如超高速实时示波器，子公司“万里眼”做的，性能提升500%，对标国际头部品牌。填补国内高端电子测量仪器空白的关键突破。很可能最大惊喜是这个。
新凯莱还将推出薄膜沉积、刻蚀、清洗等环节的设备，如EPI外延沉积设备（峨眉山）、ALD原子层沉积设备（阿里山）、刻蚀设备（武夷山）。
还有自主研发的13类量检测产品，缺陷检测或尺寸量测类设备，进一步完善设备生态。
DUV光刻机是别的单位做，新凯莱是做先进制程的配套仪器。
由于近来的一些进展，我也敢对国产光刻机报喜了，形势一片大好。2028年实现28nm量产，这就是决定性的突破。一旦28nm量产实现可用的良率，就说明国产芯片制造体系闭环了，终于可以高速迭代了，后面14nm、10nm、7nm都会比较顺。
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