近期，关于中国自主研发的浸没式DUV光刻机启动量产的传闻直接引发全球半导体市场震动，叠加国际光刻巨头酝酿涨价的产业链博弈，光刻机已成为当前科技与资本领域最受瞩目的焦点。

其实光刻机这事儿，真是看得人又燃又心酸！咱们被卡脖子多少年了，从芯片到设备，每一步都走得艰难。但看看现在，上海微电子90nm光刻机量产，中科院搞出EUV光源样机，虽然离ASML的5nm还有差距，可好歹迈出了实打实的一步！
有人冷嘲热讽说“落后几十年”，我就想问：不干能行吗？当年原子弹不也是从零起步？咱们的科研人员拿着白菜工资，干着“烧钱”的活，凭什么还要被自己人泼冷水？！
别总盯着别人家的孩子多优秀，看看自己家孩子多努力。光刻机这条路，难归难，但必须走。国家砸钱、企业投入、人才攻关，每一步都算数！总有一天，咱们也能造出世界顶尖的光刻机，到时候看谁还敢卡脖子！