电子束光刻机给所有人上了一课
它不一定能立刻替代ASML的EUV光刻
也不一定能解决量产效率的百年难题
但它精准切中了芯片研发最痛的初试环节
传统光刻每改一次设计，就得重制百万美元的掩膜版，像在烧钱试错。而羲之的电子束直写技术，让修改电路如同编辑文档般灵活，调试周期从月级压缩到天级。华为海思们火速接洽，只因这把国产刻刀划开了研发成本的铁幕。
当中国用0.6纳米精度的自主设备，将量子芯片的研发门槛拉低，封锁便成了无靶之箭。效率虽待突破，可谁能说扼住研发咽喉的，只能是量产速度？
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