上海光机所绕过二氧化碳激光，近期成功开发出 LPP - EUV 光源，波长仅13.5纳米，已经达到国际领先水平！光刻机的核心技术主要集中在极紫外光（ EUV ）、高精度光学系统和纳米级位移定位校准技术。波长13.5纳米的极紫外光，是制造5nm以下芯片的关键，也就是它能够在硅片上刻下更细的沟纹。
上海光机所绕过二氧化碳激光，近期成功开发出LPP-EUV光源，波长仅13
小斌斌说科技
2025-08-11 21:13:36
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鸿飞
而且有的是时间给你慢慢磨，2nm以下谁也没啥好招了。也到了瓶颈了。往后就是巨大的代价，性能却提升很有限，甚至更差，至少稳定性差了。何况现在是所谓的2nm。
琉璃
最重要的是光源
A君
月经帖[哭笑不得]
鸿飞
说了虽然效率高，但是总功率不够，离实用还有遥远的距离。 美国人爱大力出奇迹，板砖飞上天。他核聚变都是激光照。物镜很大精度近乎神级也是巨大的难点，采用离子刻蚀抛光加工，这也是核心技术。 中国人玩原理，玩论文那是溜得猴一样，玩耐心，迭代，精度确实差得有点多。需要时间去磨，不可能像写论文写科幻小说，今天早上写晚上就有了。
用户72xxx65
光刻机不是直接刻硅片的吧
anlexy
极紫外激光真实挺简单的，大学实验室就能做出来，不就是强光照射锡液滴吗？关键是后面的光学装置，世界上只有德国蔡司能搞定，而且是损失95%能量条件下勉强能用，国内能搞出来？呗牛皮不上税。
琉璃 回复 08-12 12:08
不是权威媒体发的都别信
嶋発孳㿵 回复 08-12 14:06
你懂个屁，今年就有产品出来，下半年试产。