项立刚：台积电“2纳米泄密”就是个假消息？台积电这种做法由来已久！
这两天媒体都在报道台积电2纳米生产技术疑似泄露。据报道，台积电在例行检查时发现几名员工偷拍了技术资料，据称这些资料流向了日本的东京电子（Tokyo Electron, TEL）。巧合的是，东京电子参与投资的一家日本公司Rapidus，最近宣称要进军2纳米芯片市场。因此，外界猜测核心机密被窃取导致技术泄露。台积电已开除了这几名员工。
我听到这个故事很不以为然，我认为这是一个虚假的故事。为什么这么说？我来分析一下基本道理。
芯片生产，当然需要极紫外（EUV）光刻机和完整的生产线。但从5纳米到3纳米再到2纳米，存在根本性的技术突破吗？拥有一套能生产5纳米芯片的生产线，是否意味着需要完全推翻原有技术或进行巨量更新才能生产2纳米？并非如此。
能生产5纳米的厂商，完全有能力向3纳米、2纳米推进。那么为何不直接生产2纳米呢？厂商不是傻子。本来生产7纳米芯片可以收取高额代工费，然后宣布拥有新的5纳米技术继续高收费，接着推出3纳米、2纳米并维持高收费。如果一开始就量产2纳米，如何持续收取溢价？所以他们必须逐步推进技术节点。技术演进是连续的改进，而不是完全的颠覆。拥有7纳米、5纳米能力的台积电推进至3纳米、2纳米是自然进程。三星、英特尔（虽起步较晚于先进制程）也能做。现在日本公司宣布要做，差的是什么？关键就是那台EUV光刻机以及配套的技术积累。
其实，具备能力生产5纳米，也就基本具备了向更先进节点迈进的基础。企业之所以逐步推进，更多是出于商业利益考量——通过持续推出“新”技术节点来收取高昂代工费，并保证所谓的竞争优势。技术上并非每次都翻天覆地。
我们再看芯片制造企业。一条芯片生产线，其核心技术是什么？核心技术之一确实在于那台EUV光刻机（目前主要由ASML提供），这是核心设备。但除此之外，如何设计流程、控制良率、整合封装技术等同样是高技术壁垒，并非“有了光刻机就万事大吉”。台积电在这些工艺整合优化上的Know-how是其核心竞争力。
所以说东京电子旗下公司（Rapidus）建设工厂想做2纳米，就一定做不了吗？并非如此。因此，仅以此怀疑台积电2纳米技术“被泄露”导致日本能做，不符合逻辑。台积电能做2纳米是其长期技术积累的结果，单凭“偷拍”就泄密？不合理。
再者，如此大规模的企业，对核心技术怎么可能没有严格的保密措施和管理机制？让员工轻松拍走机密？这听起来难以置信。一方面，核心机密可能拍不到；另一方面，泄密的渠道也不可能如此随意。这些都是故事值得怀疑的地方。
台积电历史上倒是有过起诉竞争对手（如中芯国际SMIC）侵犯知识产权的做法。之前的官司接近尾声时，也曾曝出所谓中芯国际员工邮件“索要资料”的新闻，最终导致张汝京（中芯创始人）离职并赔偿（数额并未达到10亿美元）。所以，这次所谓的“泄密”，也可能是一种“故伎重演”。
综上所述，我认为这起“台积电技术被泄密”事件，更像是一个吸引眼球、炒作话题的手段，目的是营造“台积电技术极度领先且敏感”的印象。事实上，拥有了EUV光刻机、充足的资金投入和客户基础，世界上顶尖的代工厂（如三星、英特尔）都有潜力推进至3纳米、2纳米。这没有绝对的垄断性。
当中国最终实现EUV光刻机自研突破，配合其他努力，我们也一定能迈向先进制程。那些看似强大、宣称被偷走的技术神话，往往只是市场造势的手段，用以彰显自身的强大。所谓“核心技术泄露”，极可能就是个虚假的故事。
