EUV光刻机的良率能达到60%~70%,以往只有30%~50%,跟阿斯麦尔NXT的2000i系列(代号SF3)DUV光刻机通过多重曝光实现7nm/5nm相当。说白了DUV多重曝光实现7nm/5nm成本不高;EUV单次曝光良率不高所以浪费多,反而成本过高(EUV技术已从高风险过渡到可量产阶段,但还未完全超越DUV的稳定性),但进步很大……
细思极恐!国产科技重大突破,不是中芯国际突破3nm,也不是国产EUV量产,这次恐
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EUV光刻机的良率能达到60%~70%,以往只有30%~50%,跟阿斯麦尔NXT的2000i系列(代号SF3)DUV光刻机通过多重曝光实现7nm/5nm相当。说白了DUV多重曝光实现7nm/5nm成本不高;EUV单次曝光良率不高所以浪费多,反而成本过高(EUV技术已从高风险过渡到可量产阶段,但还未完全超越DUV的稳定性),但进步很大……
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