日前,尼康公司宣布将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式光刻机“NSR-S636E”。据说,这款光刻机采用增强型iAS设计,可用于高精度测量、圆翘曲和畸变校正,重叠精度(MMO)更高,号称不超过2.1纳米。而这种技术路线的光刻机在生产效率、套刻精度都会有进一步提升。不过,目前尚不清楚尼康公司推出的这款光刻机能制造多少纳米的芯片。在尼康公司也有新技术的光刻机之后,高精度光刻机也就不再只是由荷兰阿斯麦公司的垄断了。
日前,尼康公司宣布将于2024年1月正式推出ArF193纳米浸没式光刻机“NS
南斗星君
2023-12-14 12:34:09
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用户18xxx65
这个必须自己造!自主可控
用户123456789
必须买来