新加坡联合早报今天（9月3日）报道：“荷兰半导体设备巨头阿斯麦的关键供应商、德国蔡司集团称，中国在研发尖端光刻机设备方面仍落后约15年。”
15年是顶尖整机设备的代际差距，并不代表我们所有半导体环节全部落后这么久。国内在光刻胶、刻蚀机、成熟制程设备等赛道，已经实现不同程度突破。尖端EUV光刻机是整条产业链的集大成，短板不单单是一台机器，背后是一整套上游供应链体系。
正视差距，才是追赶的起点。高端光刻机是全产业链的大考，不可能一蹴而就。脚踏实地攻关，慢慢缩小鸿沟。
时间会给出答案。