德国蔡司高管：中国自研 EUV 光刻机或需 15 年

据《联合早报》援引报道，蔡司半导体部门负责人罗蒙德（Frank Rohmund）在接受彭博电视采访时表示，中国要实现极紫外（EUV）光刻机自主研发，15 年或是一个合理的预估，同时他也坦言，中国相关领域的实际研发进度很难精确评估。

由此不难看出，想要实现 EUV 光刻机的完全自主可控，前路并不平坦，外部限制与技术壁垒叠加，亟待攻克的技术难题数量繁多。

当然，蔡司方面的观点仅代表企业一方判断。

但客观而言，短期内实现全链条独立造出 EUV 光刻机，现实挑战巨大。作为光学领域的核心参与者，蔡司深耕光刻机相关配套多年，其行业判断，相比部分自媒体的碎片化解读，具备更高的参考价值。