国产光刻机量产冲击美股据《The Information》透露，上海一家国资背景企业已开始小批量生产自主研发的浸没式深紫外DUV光刻机。计划在2026年约生产5台，年内交付；2027年增至约20台。

首批目标客户包括中芯国际、华虹半导体、长鑫存储。设备多数部件已国产化，但仍有部分关键零部件依赖日本供应，本地供应链延迟影响了今年进度。性能与可靠性仍落后于ASML，需进一步产线验证，验证周期可能数月甚至更长。

虽说这一消息目前对于市场的影响很有限，对现有DUV格局几乎没有什么影响，但是市场反映很剧烈，先是ASML跌幅约4.6%–8%，触及6月以来低点；美国半导体设备股同步下跌约5%–8%；英伟达、AMD、美光、SK海力士ADR等跌幅可达4%–9%。

出口管制本意是卡脖子，结果倒逼我国加速自主。若后续验证顺利、产量爬坡、供应链进一步自主，将持续压制ASML等在中国市场的长期增长预期。