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在中国宣布突破7nm芯片技术后,作为全球芯片代工巨头的台积电的顶尖工程师杨光磊感

在中国宣布突破7nm芯片技术后,作为全球芯片代工巨头的台积电的顶尖工程师杨光磊感慨:“如果大陆没有梁孟松,估计还要停在28nm”。
 
很多人刚听到这话,都觉得未免太过夸张。毕竟芯片制造是人类工业文明皇冠上的明珠,涉及上千道工序、数万家上下游企业的协同,是一个国家工业体系的综合比拼,怎么可能被一个人改变整个行业的进程?
 
可只要你了解过中国芯片这些年在封锁里的突围之路,就会明白杨光磊的这句话,不是夸大其词,而是一个顶尖工程师,对另一个同行最直白、最中肯的认可。
 
故事要从2017年的中芯国际说起。那时候的中芯,虽然是中国大陆规模最大的晶圆代工厂,却始终卡在技术瓶颈里动弹不得。早在2013年,中芯就已经发布了28nm工艺,可整整四年过去,这项工艺的良品率始终在60%以下徘徊,根本达不到大规模商用的标准,更别说给企业带来稳定的营收。
 
当时的全球半导体行业,台积电已经在16nm制程站稳脚跟,正全力冲刺10nm、7nm,三星也靠着先进制程抢下了大量高端订单。而中芯国际,连成熟的28nm都玩不转,业内普遍预测,中芯要想追上行业第一梯队,至少需要十年以上的时间,甚至可能永远追不上。
 
更让人绝望的是,美国的技术封锁已经开始层层布局,高端光刻机的采购渠道被死死堵住,核心技术被严格限制,中芯想按部就班跟着行业路线走,连入场券都拿不到。
 
就在这个前路一片灰暗的时刻,梁孟松来了。2017年10月,梁孟松正式出任中芯国际联席CEO,这个消息在当时的全球半导体行业直接炸开了锅。
 
他可不是普通的工程师,他是台积电“研发六骑士”之一,手握450多项半导体专利,师从FinFET晶体管技术之父胡正明,是全球最顶尖的制程技术专家。当年他离开台积电加盟三星,硬生生把卡在28nm瓶颈里的三星,直接带上14nm制程的快车道,抢下了台积电苹果A9处理器的巨额订单,逼得台积电创始人张忠谋不得不高龄复出亲自督战。
 
没人能想明白,这样一个在全球半导体行业呼风唤雨的人,为什么会放弃海外的上亿年薪和顶级地位,来到当时处处受限、前路未卜的中芯国际。
 
梁孟松入职后做的第一件事,就给中芯带来了翻天覆地的变化。他带着团队扎进产线,对着28nm工艺的上千个参数逐一调整、反复验证,只用了不到一年的时间,就把困扰中芯多年的28nm工艺良品率,从60%直接拉升到了95%以上,彻底实现了这项工艺的大规模商用,给中芯打下了最扎实的营收和技术根基。
 
就在所有人都以为,他会按部就班,先攻克22nm,再一步步向14nm进发的时候,梁孟松做出了一个让整个行业都觉得疯狂的决定——跳过22nm节点,直接攻坚14nmFinFET技术。
 
这话一出,连中芯内部都有无数反对的声音。芯片制程研发,差一个节点就是天差地别,跳代研发更是被业内视为不可能完成的任务,一步走错,就是满盘皆输。可梁孟松只说了一句话:时间不等人,别人一步一步走,我们必须两步并一步。
 
接下来发生的事,刷新了整个半导体行业的认知。梁孟松带着团队,只用了不到300天的时间,就把14nm工艺的良品率,从最初的3%提升到了95%以上,让中芯国际成为全球第六家能够量产14nm芯片的企业。台积电花了十年走完的路,他带着中芯,三年就跑完了。
 
更重要的是,14nm工艺的研发,不仅是技术的突破,更是给中芯培养出了一支近千人的先进制程研发团队,为后来7nm的突围,埋下了最关键的伏笔。
 
真正的硬仗,还在后面。随着美国制裁的全面升级,EUV光刻机被彻底封锁,而全球所有的7nm及以下先进制程,都被认为离不开EUV光刻机。业内无数专家断言,没有EUV,中芯想做7nm,根本就是天方夜谭。
 
可梁孟松再一次,走了一条没人走过的路。他提出了N+1、N+2的技术路线,要用现有的DUV光刻机,通过多重曝光技术,实现等效7nm的制程性能。
 
这条路的难度,超乎所有人的想象。相当于用普通的画笔,去画纳米级的线条,每次套印的偏差必须控制在1纳米以内,也就是3个硅原子的宽度,稍有不慎,整片晶圆就直接报废。为了驯服这套工艺,梁孟松带着团队重新设计了整个工艺流程,调整了300多个核心参数,每天开十几个技术会议,把每一个工艺细节抠到了极致。
 
最终,这条所有人都觉得的死路,被他们走通了。2021年,中芯N+1工艺进入风险量产阶段;2023年,搭载中芯N+27nm增强版工艺的麒麟9000S芯片,随着华为Mate60Pro的上市震惊全球;到2025年,中芯国际7nm工艺的良品率已经稳定突破90%,实现了商业化量产。

这时候再回头看杨光磊的那句感慨,就懂了其中的分量。作为和梁孟松共事多年的老同事,台积电的研发元老,他比谁都清楚,梁孟松给中芯带来的,从来不止是单一的技术,更是一套完整的先进制程研发体系,和一种在绝境里破局的底气。