“光刻机没有一个国家可以做得到，美国都造不出，中国根本做不到！”“中国永远都造不出光刻机？”前年，中国物理学教授朱士尧在一次采访中直言：“美国都造不出，中国永远也造不出来！”甚至认为世界上没有一个国家能造出光刻机。 2024年9月左右，朱士尧接受访谈，他谈到了顶级极紫外光刻机的制造难度。他直接指出，美国单独造不出这类设备，中国也面临同样情况，甚至说全球没有哪个国家能独自完成整机。这番话很快在网络传播，引发大量讨论。很多人把这句话简化成“唱衰中国”，但放在当时中美半导体管制收紧的背景下，他的表达更多是基于产业现实的提醒。 大家口中的顶级光刻机，指的是极紫外光刻机（EUV），它是制造7纳米及以下先进制程芯片的核心设备，没有它，高端手机、汽车芯片等就无法量产。这种光刻机的精度要求极高，核心部件的误差要控制在0.1纳米以内，相当于把北京大小的地表磨平到1厘米误差，这样的精度的难度可想而知。 目前全球只有荷兰ASML能生产EUV光刻机，但它也不是靠自己单独完成的，一台EUV包含10万多个零部件，需要全球5000多家供应商协作，这些供应商分布在50多个国家，ASML真正原创的核心技术不到10%，主要负责整合全球顶尖资源。 朱士尧说美国单独造不出EUV，并不是空口白话。美国作为芯片技术的发源地，上世纪90年代也曾有企业涉足光刻机领域，但后来因为全球化分工，美国企业更倾向于聚焦芯片设计、EDA软件等利润高、见效快的领域，放弃了光刻机整机研发。现在美国虽然能提供EUV的核心光源，还能提供计算光刻技术，但它无法整合所有核心部件，单独造出完整的EUV光刻机。 再看中国，当时中美半导体管制正不断收紧，美国持续施压荷兰，限制ASML对华出口EUV光刻机，甚至高端深紫外光刻机（DUV）和关键零部件也被纳入封锁范围。朱士尧的话，正是点出了中国当时的现实困境。那时中国的光刻机研发确实有差距，上海微电子作为国内唯一能生产光刻机的企业，当时主要能造出90纳米级的设备，离先进制程还有不小距离。 网络上的讨论很快分成两派，一部分人觉得朱士尧的话太泄气，认为中国从两弹一星到高铁、北斗，再到华为Mate60用上7纳米芯片，从来没有怕过难题，觉得他是在唱衰中国。但另一部分人理性看待，认为他说的是实话，光刻机不是靠砸钱和人海战术就能搞定的，它需要全球产业链分工，单靠一个国家的力量，很难集齐所有核心技术。 事实上，朱士尧的言论不仅没有让中国光刻机研发停滞，反而起到了提醒作用。2024年底，上海微电子推出了28纳米浸没式DUV光刻机，已经进入测试阶段，能用于中端芯片生产。中芯国际用国产DUV光刻机实现了14纳米芯片量产，良率达到90%以上，满足了不少中端芯片的需求。 2025年上半年，中国科学院突破了光刻胶新材料，能耐受更高分辨率，为光刻机研发提供了支撑。同年10月，中国电子展上展示了国产光刻原型机，精度达到14纳米，距离先进制程又近了一步。这些进展都说明，中国没有因为朱士尧的提醒而退缩，反而更加理性地推进光刻机研发。 现在再回头看朱士尧的话，已经很少有人再简单将其解读为“唱衰中国”。大家逐渐明白，他的提醒是理性的、务实的，科技突破从来不是一蹴而就的，尤其是光刻机这种集合了光学、机械、材料等多领域顶尖技术的设备，更需要时间和积累。 中国目前虽然还造不出EUV光刻机，但我们在DUV领域已经实现突破，在核心零部件上也在逐步打破垄断，相信只要保持耐心、稳步推进，“中国造不出光刻机”的说法，终将被现实打破。