Lace Lithography（中文常译为“雷斯光刻”或“原子光刻”）是一家总部位于挪威卑尔根的半导体初创公司，致力于研发超越极紫外光刻（EUV）的下一代原子束光刻技术。 该公司开发的这种全新的芯片制造方法，可以将摩尔定律的适用范围扩大 10 倍，超越光所能达到的极限——达到原子分辨率。

该公司的工程师们没有使用光，而是利用氦原子束进行光刻。凭借这项技术，这家挪威公司将能够制造出比目前技术尺寸小10倍的芯片。

“氦原子束的主要优势在于，它可以制造出晶体管⁠现代芯片的基本组成部分，其尺寸可以缩小一个数量级，达到‘几乎难以想象’的程度，”芯片行业研究和创新中心Imec的光刻技术科学总监约翰·彼得森（John Petersen）表示。

Lace公司用于制造芯片的光束宽度大约相当于一个氢原子，即0.1纳米。ASML公司的光刻工具使用的光束宽度约为13.5纳米； ⁠一根头发的宽度约为10万纳米。

更小的晶体管和其他特性将使芯片制造商能够大幅提升先进人工智能处理器的性能，远超目前的水平。Lace 的技术将使芯片制造商能够以“最终原子级⁠分辨率”印刷晶圆。

核心业务与技术特点
超越 EUV 的 BEUV 技术：
开发名为 BEUV（Beyond-EUV）的系统，使用中性氦原子束代替激光来刻蚀芯片图案。
该技术不受光学衍射极限限制，理论分辨率可达 2 纳米甚至单纳米级别。

成本与能效优势：
宣称其设备成本比传统 EUV 系统低 50% 以上。
具备显著的低能耗特性，旨在解决当前高端芯片制造中能耗过高的问题。

行业地位与前景：
目标是为未来 100 年的芯片生产提供技术基础，将摩尔定律延长 10 年以上。
已被纳入欧盟的“FabouLACE”项目资助计划，并计划在 2031 年前实现商业化。

公司基本信息
成立时间：2023 年。
总部地点：挪威卑尔根（Bergen），并在西班牙巴塞罗那设有办公室。
创始人：由卑尔根大学的 Bodil Holst 教授（CEO）和 Adrià Salvador Palau 博士（CTO）共同创立。
融资背景：2026 年 3 月刚完成由 Atomico 领投的 4000 万美元 A 轮融资，投资者还包括微软旗下的 M12 基金。