我去，昨天，科技圈出一大瓜！ 轮到我们掀桌子了！ 3月27日，国产半导体设备商新凯来在SEMICON China展会上引爆行业，首次公开亮相即发布覆盖刻蚀、薄膜沉积、量检测等6大类31款设备，产品命名以中国名山为系列，包括“武夷山”刻蚀机、“阿里山”原子层沉积设备等，剑指全球半导体装备产业链核心环节。 光听名字就觉得牛！ 此前，新凯来因三年低调研发被业内称为“神秘力量”，此次曝光的产品线显示其已突破多项关键技术：峨眉山外延设备支持12英寸晶圆先进制程；武夷山刻蚀机采用全对称架构，满足3nm以下工艺需求；量检测设备精度达纳米级，可以说填补了国产空白。 说到这里，必须点赞[赞] 还有，国产28nm光刻机已实现突破，工信部氟化氩光刻机指标显示可替代进口，而新凯来非光补光技术或为绕开EUV限制提供新路径。尽管ASML因美国禁令对华出货量腰斩，但中国半导体设备国产化率已从2023年的17%提升至35%，新凯来等企业，正加速重构全球芯片产业链格局。 所以，西方还敢掀桌子吗？这回，该轮到我们掀桌子了吧？ [赞]
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