光刻机迎来搅局者，日本即将量产！

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详情：5 nm,2026年时2 nm，光刻领先全球，日本最终进入量产阶段

伴随着科技的飞速发展，集成电路制造行业也发生了空前的变化。光刻是集成电路加工中最重要的一项技术，是提升集成电路加工精度与效率的重要手段。光刻已经是未来市场竞争中取胜的关键装备。荷兰 ASML在7 nm及更低级别的光刻机上占据着绝对的话语权。但看起来，新的搅局者将会介入这个项目。

日本光刻机生产商佳能公司最近几年在奈米印刷（NIL）领域有了长足的进步。佳能公司与 SK海力士公司历经数年的研究和协作，成功开发出 NIL （NIL）光刻技术，并在最近公布了一款可应用于5 nm制程的纳米压印器件FPA-1200NZ2C。该技术的出现，不但给集成电路生产提供了全新的契机，同时也给常规极紫外光刻市场带来了巨大的冲击。

据悉，佳能公司的纳米压印工艺，通过使用精确的模具，将图形印刷到晶圆上，从而达到高精度、高效率的制造目的。与常规极紫外光刻工艺比较，该工艺具有较小的制造费用及能源消耗。日本佳能公司宣称，这种光刻机的制造费用只相当于荷兰 ASML公司的极紫外光刻机的10%，能源消耗也只有前者的10%。在此基础上，利用奈米压印技术制作晶片，可大幅减低制程成本，提升产能，提升晶片厂商的竞争力。

除了价格上的优势外，奈米印刷机还可以大大减少产品的开发时间，增加制造过程的弹性。与传统紫外光刻相比，纳米打印对光源及镜头的要求较低，因而研制时间较短，制造过程更为柔性。这样，晶片生产商就可以更迅速地开发新的产品，以更好的适应市场的需要。

同时，佳能公司也公布了其对奈米印刷机的持续更新与改良，期望在2026年之前，可以制造出2奈米晶片。本项目的成功实施，将突破现有 EUV光刻技术瓶颈，开创一种崭新的集成电路制备模式。

佳能公司生产的奈米印刷机，将对世界晶片生产版图产生深远影响。这一趋势将打破现有极紫外光刻机行业的垄断格局，为厂商提供更多的可选方案；同时，通过对微纳加工工艺的深入研究，可以促进我国集成电路设计与工艺水平的提升，为世界的科学与技术革新提供新的动力。

佳能公司的奈米印刷机要在量产及进入市面上，还需面对不少的困难。首先，尽管纳米打印在原理上具有诸多优点，但是在应用过程中还存在着许多有待于进一步研究的问题，例如：如何制造出高精度的模具，如何进行维修保养。其次，目前极紫外光刻机的市场依然被一小部分厂商如 ASML所把持，它们可以通过某些手段来保证自身的市场占有率，进而对诸如佳能这样的新科技厂商构成了一定的竞争压力。

但是，不可否定的是，佳能公司生产的奈米印刷机，为晶片产业注入新的生机与新的挑战。这必将促进世界范围内的芯片制造技术进步与革新，为整个世界的科学与技术发展创造更大的机会。

佳能公司的奈米印刷机大规模生产，将会给世界晶片产业带来深远的冲击。这不但给晶片生产商带来了新的商机，也将推动产业的科技发展与现代化。我们相信，伴随这一革新科技的普及与发展，世界晶片制造将迎来一个光明的明天。