标签: 刻蚀机
方瑞等离子刻蚀机提升极片处理效率的案例
等离子刻蚀技术通过纳米级精密处理，能有效重构极片微观界面。其核心作用体现在三个方面：一是清洁与活化表面，去除污染物并引入极性官能团，从根本上改善电解液浸润性；二是通过选择性刻蚀，在涂层内创造微孔与粗糙结构，形成...
10+项核心专利!方瑞等离子刻蚀机研发团队如何突破半导体
半导体加工向纳米级精度进阶中,刻蚀工艺的精度控制、材料兼容性等技术壁垒,长期制约国产设备升级。深圳市方瑞科技凭借10+项等离子刻蚀核心专利,依托专业研发团队攻关,在ICP刻蚀、SiC处理等关键领域实现突破,打破海外技术垄断,...
81岁尹志尧恢复中国籍带头攻关刻蚀机 中微公司自主突围成2100亿半导体龙头
尹志尧被称为“中国刻蚀机之父”。1944年出生于北京的尹志尧，毕业于中国科学技术大学，后赴美深造获加州大学洛杉矶分校博士学位，并加入美国国籍。在美期间，他历任英特尔、泛林半导体、应用材料等国际巨头的核心技术岗位，在...
