在光学制造与精密检测领域，测量仪器的重复性与稳定性，直接决定了数据的可信度与工艺的可靠性。自2006年，浙江大学杨甬英教授团队利用四波前横向剪切干涉相位成像技术，历经17年潜心研发，推出宽光谱FIS4系列波前传感器（Wavefront Sensor），在近期完成的重复性与稳定性验证中表现卓越，成为国产光学传感器中的一匹“黑马”。

验证背景：FIS4-HR-C  VS 某波前传感器-HR

为全面评估FIS4-HR-C传感器的性能，我们将其与业界常用的某波前传感器-HR传感器（测量波长为940nm）进行对比测试。测试样本为六组镀膜小圆片，分别测量其PV值（峰谷值） 与RMS值（均方根值），以验证FIS4在不同样品上的测量一致性与可靠性。

表 1 FIS4-HR-C与某波前传感器-HR测量PV值与RMS值对比表

从数据中可见：

·PV差值最大不超过17.41nm，最小仅为0.58nm；

·RMS差值控制在5nm以内，多数在2–4nm区间；

·FIS4与某波前传感器测量结果高度吻合，重复性与稳定性优异。

实测图谱对比

图 1 样品4的某波前传感器-HR测量数据

某波前传感器-HR测量结果

PV: 178.50nm | RMS: 27.15nm

图谱显示样品表面波前分布均匀，边缘清晰。

图 2 样品4的FIS4-HR-C测量数据

FIS4-HR-C测量结果

PV: 179.08nm | RMS: 30.39nm

图谱与某波前传感器高度一致，细节还原能力强，边缘过渡自然。

FIS4在样品4的测量中，PV差值仅为0.58nm，RMS差值控制在3.24nm，在复杂表面形貌中

仍能保持高一致性，稳定性表现突出。

图 3 样品6的某波前传感器-HR测量数据

某波前传感器-HR测量结果

PV: 169.70nm | RMS: 23.40nm

图谱显示样品表面波前分布均匀，边缘轮廓清晰，无明显噪声干扰。

图 4 样品6的FIS4-HR-C测量数据

FIS4-HR-C测量结果

PV: 174.50nm | RMS: 25.38nm

图谱与某波前传感器测量结果高度吻合，表面形貌细节还原准确，边缘过渡自然平滑，展现出优异的信号一致性。

FIS4在样品6的测量中，PV差值仅为4.80nm，RMS差值控制在1.98nm，再次验证了其在复杂

表面形貌测量中具备极强重复性与稳定性。

为什么FIS4能做到“稳如磐石”？

✅ 四波横向剪切干涉技术加持

采用单光路干涉原理，无需移相。增强信号稳定性，抑制噪声干扰，提升测量信噪比。

✅ 高重复性设计

硬件与算法协同优化，可实时输出PV、RMS、PSF、MTF、Zernike系数等关键参数，并能进行动态采集和区域分析。确保在多次测量中输出一致结果，适合产线连续检测。

✅ 强环境适应性

无需参考光，光路结构紧凑，抗振动、抗温飘能力强，适用于工业现场与实验室多种场景。

✅ 全面国产化方案

在保证与国际品牌相媲美的精度前提下，提供更具性价比的测量解决方案。

FIS4波前传感器（Wavefront Sensor）凭借卓越的重复性、可靠的稳定性以及全面的国产化技术支撑，正逐步成为高精度光学测量领域的新选择。广泛应用于光学镜片面形检测、镀膜均匀性评估、微结构表面形貌测量、半导体晶圆质量监控等领域。无论是研发阶段的样品分析，还是产线中的批量检测，FIS4都能提供可信、可用、可靠的测量保障。