中国造不出光刻机？中科大副院长：美国造不出，中国永远都不可能！ 这句话在2024年9月一经传出，就瞬间引爆了全网争议，有人骂说话者长他人志气、灭自己威风，也有人静下心来思考，这句话背后到底藏着怎样的现实真相。 说这句话的，是中国科学技术大学前副院长朱士尧，他不仅是物理学教授，还曾在华为担任高管，既有扎实的学术功底，也懂企业发展的实际困境，他的这番话，绝非随口调侃，而是在一次北京科技节目访谈中，面对中美半导体差距的提问，给出的理性回答，并非否定中国的努力，而是点透了光刻机产业的底层逻辑。 很多人都有一个误区，觉得光刻机就是一台普通的工业机器，只要砸钱、堆人才，早晚能造出来。但实际上，光刻机是人类精密制造的巅峰之作，堪称“工业皇冠上的明珠”，它根本不是单一国家能独立造出来的，而是全球几十国核心技术的“拼接品”，荷兰ASML能垄断高端光刻机市场，靠的从来不是自己单打独斗。 一台顶尖EUV光刻机，光零件就超过10万个，重量达到180吨，核心部件分散在全球各地：德国蔡司的反射镜，表面粗糙度要控制在0.1纳米以内，相当于原子直径的几分之一；美国Cymer公司的光源，需要每秒以5万次的频率轰击锡滴，将其加热到数十万摄氏度，才能产生波长仅13.5纳米的极紫外光；还有日本的光刻胶，纯度要求高到极致，一点杂质就可能导致晶圆报废。 朱士尧说“美国造不出”，并不是贬低美国的科技实力，而是客观事实。美国虽然有顶尖的光源技术，也能造出光刻机的部分核心部件，但它没有德国蔡司那样的高端光学镜头，也没有日本的高纯度光刻胶，缺乏全球供应链的整合能力，即便投入巨资，也始终没能造出完整的高端光刻机，甚至曾尝试自建生产线，最终因成本过高而放弃。 理解了这一点，就不难明白他后半句话的深意：连全球科技实力最强的美国，都无法脱离全球供应链独立造出光刻机，起步更晚、基础更薄弱的中国，短期内自然也难以做到。这不是泄气话，而是正视差距的理性判断，毕竟光刻机的研发，从来不是“弯道超车”那么简单，它需要几十年的技术积累，需要完善的工业体系，更需要全球范围内的技术协作。 当然，这并不意味着中国在光刻机领域毫无进展，更不代表我们会一直依赖进口。事实上，中国一直在默默发力，稳步突破。 上海微电子已经实现了28纳米浸没式DUV光刻机的批量出货，良率稳定在95%以上，还能用现有设备，通过多重曝光技术实现7纳米芯片的量产，国产化率也从几年前的低个位数，提升到了如今的35%。 就连朱士尧所在的中科大，也在半导体领域持续突破，团队创新性地提出“自刻蚀”方法，实现了原子级平整的异质结可控构筑，为未来半导体器件的微型化开辟了新路径。除此之外，国望光学推出的光学组件，精度也达到了0.1纳米，逐步打破德国蔡司的垄断，国产光刻胶的自给率也在稳步提升。 朱士尧的这番争议性言论，最大的价值，就是让我们清醒地认识到，科技自主从来不是一蹴而就的，也不是闭门造车就能实现的。它需要我们正视差距，不盲目乐观，也不妄自菲薄；需要我们沉下心来积累技术，完善工业体系；更需要我们在坚持自主研发的同时，积极参与全球协作。 如今，中国的光刻机研发，正走在一条“先稳中端、再攻高端”的正确道路上，从90纳米到28纳米，从DUV到EUV原型机测试，每一步都走得扎实而坚定。我们不否认，和ASML相比，我们还有不小的差距，但我们从来没有停下前进的脚步。 说到底，朱士尧的话，不是“唱衰”，而是“提醒”。光刻机的突破，从来不是靠口号，而是靠日复一日的积累和坚持。相信只要我们保持耐心，稳步推进，假以时日，中国一定能在光刻机领域实现更大突破，打破全球垄断，而这一切，不需要急于求成，也不需要盲目攀比，脚踏实地，就是最快的路。