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国内光刻机&光刻胶产业10大核心企业1. 张江高科:主营科技投资、园区运营,子公

国内光刻机&光刻胶产业10大核心企业1. 张江高科:主营科技投资、园区运营,子公司持上海微电子10.78%股权,布局光刻机产业链投资,上海微电子28nm DUV光刻机已稳定交付中芯国际。2. 茂莱光学:研发销售精密光学器件/镜头,光刻机核心光学组件深紫外透镜通过28nm DUV验证,2025年光刻前道量测技术样机完成工艺改善,即将小批量试制。3. 福晶科技:主营非线性光学晶体,LBO/BBO晶体全球市占率领先,是ASML光刻光源核心供应商,切入国产DUV光源供应链。4. 北方华创:布局半导体装备及光刻机机械传动部件,攻克双工件台0.1纳米级高精度控制技术,供货上海微电子,拿下光刻机30%高价值环节,配套HBM核心设备。5. 南大光电:深耕半导体材料,国内率先实现ArF高端前道光刻胶量产,14nm浸没式产品通过验证,主攻28nm及以上制程国产替代。6. 彤程新材:主营高分子材料及全品类光刻胶,国内KrF光刻胶最大量产供应商(市占率40%),自产树脂降本35%,ArF产品供中芯国际,与ASML合作开发EUV封装技术。7. 上海新阳:提供半导体材料解决方案,KrF光刻胶年销破800吨,与贺利氏共建EUV光刻胶实验室,显影/蚀刻液与光刻胶协同销售占比35%,2026年冲刺Intel认证。8. 安集科技:专注半导体湿电子化学品,光刻胶去除剂适配14nm以下先进制程,打破国外垄断,客户覆盖中芯国际、长江存储。9. 奥普光电:依托长春光机所攻坚EUV光刻机核心光学系统,物镜系统定位精度0.8nm适配3nm制程,对标蔡司,突破EUV反射镜成像技术。10. 雅克科技:布局光刻胶上游核心原料及面板光刻胶,为国内光刻胶企业供关键原料,面板光刻胶稳供LG Display,光刻胶业务营收占比27%。