近日外媒爆料，中国（EUV）光刻机已横空出世。 中国科技界平静如水，反到是外国媒体热吵，中国在光刻机领域的“曼哈顿计划”，中国国产（EUV）光刻机原型机已在深圳成功问世。从原型机到大规模生产还有段过程，预计在28年最迟30年以前就可运用到工业生产中。果真如此的话，我们的芯片产业，就要挂档提速了，我们就可以从从容容的用回头方式看卡我们脖子的人了，想想都痛快。