新加坡学者王国辉：中国EUV光刻机若量产，芯片战将结束。 2025年1月3日，哈工大研发出DPP - EUV极紫外光源，波长达13.5纳米，输出功率120瓦，能连续运行100小时，波动幅度在0.8%以内。它通过高压电场直接激发等离子体，结构简单，体积缩小约三成，成本降低超三成，避开了国外专利集中领域。 从2023年推进项目，2024年获资金与奖项，到2025年成果不断。1月新型光源能帮中芯国际降低7纳米芯片生产成本20%，引发市场波动；2月长春光机所测试反射镜有成果；3月新凯来完成7纳米曝光实验。 新加坡学者王国辉认为，若国产EUV光刻机量产，芯片战即结束。他看好中芯国际，因其资金足、有政府支持，国内工程人才多，还有巨大国内市场，能实现规模经济。
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